منبع نور FEL و تفاوت آن با EUV فعلی

فناوری Free-Electron Laser با استفاده از شتاب‌دهنده‌های ذره، امکان تولید نور بسیار پرتوان و پایدار را فراهم می‌کند.
در مقایسه با منابع EUV کنونی که بسیار پیچیده، گران‌قیمت و محدود به تعداد کمی تأمین‌کننده هستند، FEL می‌تواند گزینه‌ای منعطف‌تر و بالقوه کارآمدتر برای نسل‌های آینده لیتوگرافی باشد.

مسیر توسعه و همکاری‌های تحقیقاتی

شرکت xLight قصد دارد نمونه اولیه این سیستم را در Albany Nanotech Complex توسعه دهد و آن را با شبکه آزمایشگاهی وزارت انرژی آمریکا هماهنگ کند.
این همکاری زیرساختی، نقش مهمی در ارزیابی عملی بودن و مقیاس‌پذیری فناوری خواهد داشت.

پیامدهای صنعتی و زنجیره تأمین

در صورت موفقیت، منبع نور FEL می‌تواند انحصار فعلی بازار ابزارهای EUV را کاهش دهد و به تولیدکنندگان تراشه گزینه‌های بیشتری برای انتخاب بدهد.
این موضوع می‌تواند ریسک زنجیره تأمین را کاهش داده و حتی به کاهش هزینه تولید در گره‌های پیشرفته منجر شود.

نگاه استراتژیک و ریسک‌ها

سرمایه‌گذاری دولت آمریکا در xLight نشان‌دهنده اهمیت لیتوگرافی به‌عنوان هسته امنیت و استقلال صنعت نیمه‌هادی است. با این حال، مسیر تبدیل نمونه اولیه FEL به تولید انبوه پرریسک است و نیازمند حفظ هم‌زمان پایداری، کیفیت، بازده و هزینه خواهد بود.
تأخیر یا شکست در این مسیر می‌تواند انتظارات بازار را تحت تأثیر قرار دهد.

خلاصه خبر

استارتاپ xLight با دریافت ۱۵۰ میلیون دلار حمایت دولتی تحت CHIPS & Science Act، توسعه منبع نور FEL برای لیتوگرافی تراشه را آغاز کرده است.
این فناوری در صورت موفقیت می‌تواند رقیبی جدی برای EUV فعلی باشد و انحصار بازار ابزارهای لیتوگرافی را کاهش دهد.